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渦旋理論是法國人 Leno Creux 于1905年以可逆轉(zhuǎn)的渦旋膨脹機為題申請了美國專利。但由于當時的加工制造水平有限，渦旋盤渦旋齒型線的加工精度無法得到保證，渦旋機械在很長的一段時間內(nèi)沒有被制造出來。20 世紀 70 年代開始，能源危機的加劇和高精度數(shù)控機床的出現(xiàn),為渦旋機械的發(fā)展帶來了機遇,1973 年美國 Arthur D. Little(簡稱 A.D.L)公司首次提出了渦旋氮氣壓縮機的研究報告，展現(xiàn)出渦旋壓縮機所具有其他壓縮機無法比擬的優(yōu)點，從而渦旋壓縮機大規(guī)模的開發(fā)和研制走上了迅速發(fā)展的道路。

 隨著半導體、新材料和生物制藥等行業(yè)的飛速發(fā)展，渦旋理論的不斷成熟以及人們對真空環(huán)境清潔無油的迫切要求，渦旋真空泵以其特的優(yōu)點應運而生。20世紀80年代早期，渦旋真空泵以其密封性好，返油率低的特性被Coffin Do應用在高真空系統(tǒng)中。1987年,日本三菱電機公司首次成功開發(fā)回轉(zhuǎn)型渦旋真空泵, 在結(jié)構(gòu)和性能上顯示了對的優(yōu)勢。1988年,立式回轉(zhuǎn)型油潤滑渦旋真空泵由日本東京大學的Morishita E研制成功。

干式真空泵與油潤滑真空泵的區(qū)別在于,泵腔內(nèi)不含任何的油類和液體。因此,解決泵內(nèi)的密封和冷卻問題是干式渦旋真空泵研究的關鍵。1990年，采用水冷方式進行冷卻的臥式干式渦旋真空泵由 Kushiro T研制成功。1998年，采用風冷方式進行冷卻的干式渦旋真空泵由 Sawada T研制成功，其主軸上裝有兩個冷卻風扇，分別位于兩個靜盤的端部。

渦旋真空泵按兩渦旋盤運動方式的不同可分為兩種類型：公轉(zhuǎn)型和回轉(zhuǎn)型。

公轉(zhuǎn)型渦旋真空泵中的一個渦旋盤固定不動，稱為靜渦旋，另一個渦旋盤稱為動渦旋盤。電機帶動曲軸旋轉(zhuǎn)，曲軸推動動渦旋盤基圓圓心繞靜渦旋盤基圓圓心做半徑為 r（兩渦旋盤之間的徑向距離）的圓周運動，由防自轉(zhuǎn)機構(gòu)限制動渦旋盤不能自轉(zhuǎn)。其中電機轉(zhuǎn)速通常約為1500r/min，此時泵的極限真空度較高，并隨電機轉(zhuǎn)速的變化極限真空度變化較小。

回轉(zhuǎn)型渦旋真空泵中兩個渦旋盤都是動渦旋盤，它們同步同方向各自繞自身基圓圓心旋轉(zhuǎn)，相對運動仍為公轉(zhuǎn)平動。

兩種型式的渦旋真空泵，公轉(zhuǎn)型式的結(jié)構(gòu)簡單、零件少，回轉(zhuǎn)型式的結(jié)構(gòu)復雜、零件多。目前多數(shù)廠家的渦旋真空泵產(chǎn)品都為公轉(zhuǎn)型。

國內(nèi)外已投放市場的渦旋真空泵主要有：美國Agilent公司的雙面渦旋真空泵、英國 Edwards公司的單面單頭渦旋齒渦旋真空泵、德國 Busch 公司生產(chǎn)的渦旋真空泵、中國科學院沈陽科學儀器研制中心有限公司的雙面單頭渦旋齒渦旋真空泵，等等。

思科渦旋科技(杭州)有限公司從事高性能渦旋壓縮機與真空泵的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。公司擁有多項原創(chuàng)性發(fā)明專利，占據(jù)無油浮動渦旋技術(shù)創(chuàng)新及應用較前沿地位。

公司是世界主要的渦卷技術(shù)的創(chuàng)新中心之一。2010年在中國上海設立國內(nèi)渦卷技術(shù)研發(fā)中心；在杭州設有博士后工作站分站，與國內(nèi)外高水平大學聯(lián)合進行人員培養(yǎng)和技術(shù)研發(fā)。公司近年的研發(fā)投入超千萬元，并保持研發(fā)投入的高增長，每年都能根據(jù)市場需要推出多項新產(chǎn)品。公司自主研發(fā)的浮動渦卷技術(shù)，解決了傳統(tǒng)固定擾動半徑渦旋技術(shù)長期存在的可靠性和穩(wěn)定性的問題，使產(chǎn)品的性能達到更高層次。我們的無油的機械設計使產(chǎn)品和解決方案更加潔凈、節(jié)能、環(huán)保。

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